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隨著IC制造向更小特征線寬尺寸和更薄外延層的發(fā)展，集成電路器件對于外延片的質量要求不斷增加，先進邏輯和存儲工藝的推進，開辟出更多外延工藝的應用場景，也對外延系統(tǒng)的功能和外延性能提出了更高的要求。

Epi RP 300 Compass HP

Epi RP 300 Compass HP是一款針對先進邏輯代工與存儲，以及功率器件中的外延工藝應用需求的減壓外延設備，具有先進的紅外加熱控制技術和加熱模塊設計，可實現(xiàn)溫度的快速升降和溫度場的精確控制，使系統(tǒng)具備優(yōu)異的工藝重復性和設備穩(wěn)定性，從而獲得良好的厚度均勻性、電阻率均勻性，零滑移線和低缺陷密度的外延層生長。可滿足工藝均勻性控制、低晶體缺陷、低摻雜和顆粒密度可控性強的要求。

Epi ATM 300 Compass HP

Epi ATM 300 Compass HP是一款針對外延片、MEMS和功率器件，如IGBT的生產(chǎn)制造，而設計的常壓外延設備。該設備為我公司自主研發(fā)，擁有自主知識產(chǎn)權的設備，配備了先進的進氣模塊，擁有極致的沉積速率。

我們不僅提供高穩(wěn)定性、高產(chǎn)出的工藝機臺以及備品備件和售后服務，同時可提供相關的工藝解決方案。